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第二類，磁控濺射，給靶材施加高電壓（形成等離子狀態），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表麵形成金屬皮膜的方法。

第三類，真空離子麻豆专区1区二区，是真空蒸發和真空濺射麻豆专区1区二区結合的一種麻豆专区1区二区技術。

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