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在真空中製取膜層，包含鍍製晶態的金屬材料、半導體材料、絕緣物等氫氧化物或化學物質膜。盡管有機化學汽相沉積也選用緩解壓力、低電壓或等離子等真空方式，但一般真空麻豆专区1区二区就是指用物理學的方式沉積薄膜。真空麻豆专区1区二区有三種方式，即揮發麻豆专区1区二区、磁控濺射麻豆专区1区二区和等離子噴塗。

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