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PVD真空麻豆专区1区二区工藝對環境的要求嚴格嗎?
來源: | 發布日期:2022-08-22

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真空麻豆专区1区二区工藝基材表麵的清潔和處理非常重要。基材表麵汙染來自各種灰塵、拋光膏、油、汗漬等附著在零件国产麻豆三级片、傳輸、包裝過程中的物品、濕空氣中產生的氧化膜、吸收和吸附的氣體。這些汙垢基本上可以通過去除油或化學清洗來去除。

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真空麻豆专区1区二区工藝對基材潔淨度的要求:所謂的常規真空工藝是指沒有特殊要求的真空工藝過程,它們都不能有堆積的汙染源。

1.真空環境中的所有部件都要求無灰塵、鐵屑、鏽蝕;

2.真空電鍍過程中基材外觀應光滑,無軟組織、氣孔、內焊等影響真空環境的缺陷;

3.真空室內運動部件不得使用機油作為潤滑劑,高真空設備應使用飽和蒸氣壓低的擴散泵油和矽油作為潤滑劑;

4.真空室內相對濕度不高於清潔空氣循環環境的70%;

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