真空CDLC膜層又稱類金剛石膜層，其原理是屬於PVD聯合化學氣相沉積的過程，是利用氣態物質通過化學反應在基片表麵形成固態薄膜的一種成膜技術。

真空CDLC膜層沉積的三個階段：1）反應氣體向基體表麵擴散  2）反應氣體吸附於基體表麵 3）在基體表麵上發生化學反應形成固態沉積物及產生的氣相副產物脫離基體表麵。

CDLC成膜的過程：反應氣體（C2H2）在等離子體作用下發生離子化，形成激發態的活性C基團，這些活性C基團通過擴散到達基片表麵，完成薄膜生長。

CDLC對比普通PVD工藝，它的膜層硬度可達1500HV以上，膜層的厚度一般在2微米以上，較低的耐摩擦係數和抗刮花能力是它以裝飾膜和功能膜被廣泛應用在智能穿戴手表及傳統手表配件上的重要因素。

當然真空CDLC膜層也有它的局限性，其一就是麻豆专区1区二区工藝複雜，所以成本較高；其二是顏色比較局限，L值一般在40以上，所以外觀裝飾上，比較單調。